印染:迷彩織物應(yīng)用分散/還原兩相法印花實(shí)踐
摘要: 介紹了迷彩織物的印花工藝特點(diǎn),針對(duì)傳統(tǒng)印花工藝存在的不足,對(duì)印花工藝及設(shè)備進(jìn)行了改進(jìn),充分利用現(xiàn)有的設(shè)備,應(yīng)用分散/還原兩相法印花工藝,提高滌棉迷彩織物的色牢度和服用性能。
關(guān)鍵詞: 分散/還原染料;印花;工藝;兩相法
0 前言
迷彩面料一般由綠、黃、黑、棕等色斑構(gòu)成,可分為叢林、荒漠、海洋迷彩等種類。其圖案都是模擬樹(shù)干、陰影、巖石和沙土等。
近年來(lái),國(guó)內(nèi)生產(chǎn)迷彩面料主要采用涂料/活性染料印花工藝及涂料/分散/活性染料印花工藝,這些工藝雖然各有長(zhǎng)處,但也存在不足。涂料印花工藝的不足在于迷彩面料手感硬,透氣性能差,摩擦牢度差,色牢度不理想?;钚匀玖瞎に囯m然活性染料與纖維發(fā)生鍵合反應(yīng),濕處理牢度、透氣性能較好,但其氣候、日曬、汗?jié)n、氯浸、煙退等牢度不夠理想。而涂料/分散/活性共同印花工藝雖能部分解決以上問(wèn)題,但同時(shí)存在涂料、活性印花的不足之處。
目前迷彩面料主要采用滌棉混紡府綢及卡其坯布,如采用以上印花工藝,其最終產(chǎn)品是很難達(dá)到要求的,尤其是對(duì)耐氣候、日曬、汗?jié)n、氯浸、煙退牢度的要求較高。因此要生產(chǎn)出符合高的要求的迷彩面料,只有從印花工藝上加以改進(jìn),才能適應(yīng)軍隊(duì)作戰(zhàn)的要求。
1 印花工藝設(shè)計(jì)
由于在一相法印花工藝中,堿劑和還原劑對(duì)分散染料有影響,因此,宜采用兩相法印花工藝。即先經(jīng)過(guò)焙烘或高溫汽蒸使分散染料固色,然后再經(jīng)還原浴快速汽蒸,使還原染料在棉纖維上固色,織物經(jīng)還原浴處理時(shí),還原液將沾污在棉纖維上的分散染料清洗,從而提高了面料的色澤鮮艷度和色牢度。改善滌棉迷彩面料的服用性能,實(shí)質(zhì)就是改善棉相的染色性能,我們選用了分散/還原染料同漿印花工藝,利用還原染料優(yōu)良的色牢度,對(duì)棉相差色。在分散/還原染料同漿印花工藝中,還原染料著色需要還原劑和堿劑,而堿劑和還原劑對(duì)分散染料都有較大的影響,所以要采用兩相法印花。即在分散/還原染料同漿色漿中,不加堿劑和還原劑,印花后先高溫焙烘,使分散染料著染滌相,后在堿劑和還原劑的作用下,使還原染料上染棉相。其工藝流程設(shè)計(jì)為:
原坯布→織物印花→烘干→汽蒸(125 ℃,10 min)或焙烘(195 ℃~200 ℃,2 min)→軋還原液→快速汽蒸(100 ℃~104 ℃,60 s)→水洗→氧化→皂洗→烘干→(阻燃整理)→成品
從工藝流程來(lái)看,與傳統(tǒng)工藝可套,但對(duì)于迷彩面料卻存在以下問(wèn)題:(1)整個(gè)布面深色占75%以上;(2)印花面積達(dá)100%,吃漿量大,這些在傳統(tǒng)工藝運(yùn)用上是很少見(jiàn)的,也是難以完成的;(3)面軋還原液需在快速蒸化機(jī)上進(jìn)行,而現(xiàn)有廠家大多無(wú)此設(shè)備。因此,對(duì)還原工藝進(jìn)行了改進(jìn)。
1.1 工藝流程
以T/C 14×2/28 330/252 96.5 cm府綢為例。
原坯白布→翻縫燒毛→退煮漂→絲光→定型。
原坯白布燒毛3級(jí)~3.5級(jí);退漿凈、煮練透、絲光足、去堿凈;毛效6 cm/30 min~8 cm/30 min;布面pH 7~8;定型門(mén)幅91 cm~92 cm,布面平整。保證染料的上染率,防止布面帶堿,造成分散染料的水解或還原,致使色澤變萎變暗。
以T/C 14×2/28 330/252 96.5 cm府綢為例。
原坯白布→翻縫燒毛→退煮漂→絲光→定型。
原坯白布燒毛3級(jí)~3.5級(jí);退漿凈、煮練透、絲光足、去堿凈;毛效6 cm/30 min~8 cm/30 min;布面pH 7~8;定型門(mén)幅91 cm~92 cm,布面平整。保證染料的上染率,防止布面帶堿,造成分散染料的水解或還原,致使色澤變萎變暗。
1.2 印花
1.2.1 迷彩面料的特點(diǎn)
迷彩面料圖案具有色塊面大、顏色深的特點(diǎn),適宜采用圓網(wǎng)印花。針對(duì)其花形特點(diǎn),花網(wǎng)宜選用60目~80目的鎳網(wǎng)。
1.2.2 染料的選擇
兩相法工藝設(shè)計(jì)的關(guān)鍵在于還原工序,并非所有的還原染料都適合于印花,所以應(yīng)考慮還原染料的選擇,確定最佳的色譜范圍。
?。?)還原染料隱色體的電位大約在-610 mV~-1000 mV之間,負(fù)值越小越易還原,故隱色體電位負(fù)值較小的比較適合印花。
?。?)還原染料的物量狀態(tài),結(jié)晶情況,顆粒大小。顆粒小,比表面積大,還原速度快,且擴(kuò)散性能好,調(diào)配成印花色漿也不易損傷刮刀,便于印花,應(yīng)對(duì)配置好的色漿進(jìn)行過(guò)濾。
1.2.3 印花色漿的調(diào)配
兩相法印花工藝常采用的糊料是海藻酸鈉和羥甲基纖維素(CMC)或合成龍膠的混合糊,其特點(diǎn)是印制花紋線條光潔,輪廓清晰,但這些糊料的粘度較大,遇堿易凝結(jié),不便于圓網(wǎng)印花,考慮到迷彩面料花形面大,輪廓清晰度要求不是很高,因此采用海藻酸鈉糊比較適宜,其工藝處方為:
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